半導體專用氫氣發生器

原理分析：

半導體專用氫氣發生器是由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥、開關電源等部件組成，設備通電后，電解池陰極產氫氣，陽極產氧氣，氫氣進入氫/水分離器，氧氣排入大氣。

氫/水分離器將氫氣和水分離，氫氣進入干燥器除濕后，經穩壓閥、調節閥調整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調）由出口輸出。電解池的產氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右，當壓力達到設定值時，電解池電源供應切斷；壓力下降，低于設定值時電源恢復供電。

半導體專用氫氣發生器采用SPE固態電解質技術，無需用堿，直接電解純水有效的保護色譜柱，其結構優勢有：

1、采用英國Peculiar研發離子膜（技術）；

2、采用分子篩耐用干燥劑，使氫氣純化更加*，以產生純度為99.9999%的氫氣，確保結果的重現性；

3、采用英國Peculiar硅橡膠圈(含硫量低)，有效提高氣體質量，保證GC基線平穩；

4、自動水位控制，當缺水狀態時，自動停機，自動補水功能Hydrogen-500（S）水量低于15%時，由外置水箱自動補水，無需停機加水。有效保護電解池，延長使用壽命；

5、壓力及流量均采用一體化微電腦的控制。